２０２４年度も、新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、
理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催します。
本年度第１回として、レーザー直接描画装置を用いたフォトマスクの作製方法についての原理を講習し、実際に装置を使ってモデルチップ（液滴生成チップ）の
クロムマスク作製の体験実習を行います。
参加ご希望の方は下記の申込フォームよりお申込みください。好評につき定員に達しました
日時：２０２４年５月９日（木） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
費用：13,000円
定員：先着５名程度
実習内容：フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
実習機器：レーザー直接描画装置DWL66fs（Heidelberg Instruments Mikrotechnik社製）
講師 ：山本 貴富喜 准教授 （東京工業大学工学院）
場所 ：かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室１（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり）
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実習会参加申込： ▶ 申込フォーム 好評につき定員に達しました
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
本講習・実習会は、日本工学会ECE（高度技術者教育）プログラムに申請中です。
ECE認定プログラムコース案内