2024年度も、新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、
理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催します。
本年度第2回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行ないます。
さらにNANOBICのマスクアライナを使って実習を行なっていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
参加ご希望の方は下記の申込フォームよりお申込みください。 好評につき定員に達しました
日時:2024年5月23日(木) 13:30~16:30(講習1時間、実習2時間)
費用:13,000円
定員:先着5名程度
実習内容:精密フォトリソグラフィの体験実習
実習機器:手動両面マスクアライナ SUSS MA6BSA(ズース・マイクロテック株式会社製)
講師 :佐藤 友美 先生 ( (地独)神奈川県立産業技術総合研究所)
場所 :かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室1(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり)
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実習会参加申込: ▶ 申込フォーム 好評につき定員に達しました
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主催:4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市