【終了しました】ナノファブ第8回【シリコンドライエッチング】開催案内

新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催しています。

本年度第2回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。

参加ご希望の方は下記のgoogleフォームよりお申込みください。

日時:2023年7月20日(木) 13:30~16:30(講習1時間、実習2時間)

費用:13,000円(実費+コロナ対策費)

定員:先着5名程度

実習内容:シリコンの深掘り加工の原理や、応用事例について講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナを
    使って実習を行っていただくことで、その技術を習得できます。

実習機器:シリコン深掘りDRIE装置 MUC-21 (製造:住友精密工業(株))

講師  :関口 哲志 先生(早稲田大学ナノ・ライフ創新研究機構研究院教授)

場所  :かわさき新産業創造センター KBIC 大会議室 NANOBIC会議室2(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり)

             ▶ アクセス

実習会案内パンフレット: ▶ ご案内パンフレット 

今後の実施計画:     ▶ 年間スケジュール 

実習会参加申込:        ▶ 申込フォーム

主催:4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市


なお、川崎市に事業所を有する中小企業の皆様は、川崎市からの補助が受けられます。川崎市補助金募集案内

本講習・実習会は、日本工学会ECE(高度技術者教育)プログラムに申請中です。

ECE認定プログラムコース案内